Вакуумно-плазменный модуль для формирования структур элементной базы наноэлектроники и микроэнергетики

Заголовок	Вакуумно-плазменный модуль для формирования структур элементной базы наноэлектроники и микроэнергетики
Тип публікації	Journal Article
Year of Publication	2010
Автори	Руденко, ЭМ, Короташ, ИВ, Семенюк, ВФ, Шамрай, КП
Short Title	Nauka innov.
DOI	10.15407/scin6.03.036
Об'єм	6
Проблема	3
Рубрика	Научно-технические инновационные проекты Национальной академии наук Украины
Pagination	36-38
Мова	Украинский
Анотація	Создан вакуумно-плазменный модуль – специализированную технологическую установку прецизионного размерного травления и многофункциональной ионно-плазменной обработки. В основу установки положена двухразрядная система, состоящая из источника высокоселективного плазмохимического травления и источника высокоанизотропного реактивно-ионного травления. Установка предназначена для формирования структур элементной базы наноэлектроники и топологии наноприборов, термоэмиссионных источников, элементов преобразования солнечной и тепловой энергии в электрическую.
Ключові слова	вакуумно-технологическое оборудование, геликонный источник плазмы, емкостный магнетронный ВЧ-источник плазмы, ионно-плазменные технологии, нано- и микроэлектроника
Посилання	1. Shinohara S., Shamrai K.P. Effect of electrostatic waves on a rf field penetration into highly collisional helicon plasmas // Thin Solid Films. − 2002. − V. 407. − № 1-2. − P. 215-220. 2. Кралькина Е.А. Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе // УФН. – 2008. − Т. 178. − № 5. − С. 519-540. 3. Руденко Е.М., Короташ І.В., Семенюк В.Ф., Шамрай К.П. Установка для прецизійного іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок в єдиному вакуумнотехнологічному циклі // Nauka innov. 2009. 5(5):5-8. https://doi.org/10.15407/scin5.05.005

Google Scholar