Вакуумно-плазмовий модуль для формування структур елементної бази наноелектроніки та мікроенергетики

1Руденко, ЕМ
1Короташ, ІВ
1Семенюк, ВФ
2Шамрай, КП
1Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України, Київ
2Інститут ядерних досліджень НАН України, Київ
Nauka innov. 2010, 6(3):36-38
https://doi.org/10.15407/scin6.03.036
Рубрика: Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
Мова: Українська
Анотація: 
Створено вакуумно-плазмовий модуль – спеціалізовану технологічну установку прецизійного розмірного травлення та багатофункціональної іонно-плазмової обробки. Модуль базується на дворозрядній системі, що складається з джерел високоселективного плазмохімічного та високоанізотропного реактивно-іонного травлення. Установка призначена для формування структур елементної бази наноелектроніки та топології наноприладів, термоемісійних джерел, елементів перетворення сонячної та теплової енергії в електричну.
Ключові слова: ємнісне магнетронне ВЧ-джерело плазми, іонно-плазмові технології, вакуумно-технологічне обладнання, геліконне джерело плазми, нано- і мікроелектроніка
Посилання: 
1. Shinohara S., Shamrai K.P. Effect of electrostatic waves on a rf field penetration into highly collisional helicon plasmas // Thin Solid Films. − 2002. − V. 407. − № 1-2. − P. 215-220.
2. Кралькина Е.А. Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе // УФН. – 2008. − Т. 178. − № 5. − С. 519-540.
3. Руденко Е.М., Короташ І.В., Семенюк В.Ф., Шамрай К.П. Установка для прецизійного іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок в єдиному вакуумнотехнологічному циклі // Nauka innov. 2009. 5(5):5-8.
https://doi.org/10.15407/scin5.05.005