1Руденко, ЕМ, 1Короташ, ІВ, 1Семенюк, ВФ, 2Шамрай, КП
1Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України, Київ
2Інститут ядерних досліджень НАН України, Київ
Nauka innov. 2010, 6(3):36-38
https://doi.org/10.15407/scin6.03.036
Рубрика: Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
Мова: Українська
Анотація: 
Створено вакуумно-плазмовий модуль – спеціалізовану технологічну установку прецизійного розмірного травлення та багатофункціональної іонно-плазмової обробки. Модуль базується на дворозрядній системі, що складається з джерел високоселективного плазмохімічного та високоанізотропного реактивно-іонного травлення. Установка призначена для формування структур елементної бази наноелектроніки та топології наноприладів, термоемісійних джерел, елементів перетворення сонячної та теплової енергії в електричну.
Ключові слова: ємнісне магнетронне ВЧ-джерело плазми, іонно-плазмові технології, вакуумно-технологічне обладнання, геліконне джерело плазми, нано- і мікроелектроніка
Посилання: 
1. Shinohara S., Shamrai K.P. Effect of electrostatic waves on a rf field penetration into highly collisional helicon plasmas // Thin Solid Films. − 2002. − V. 407. − № 1-2. − P. 215-220.
2. Кралькина Е.А. Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе // УФН. – 2008. − Т. 178. − № 5. − С. 519-540.
3. Руденко Е.М., Короташ І.В., Семенюк В.Ф., Шамрай К.П. Установка для прецизійного іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок в єдиному вакуумнотехнологічному циклі // Nauka innov. 2009. 5(5):5-8.
https://doi.org/10.15407/scin5.05.005