Создана установка для ионно-плазменного формирования углеродных нанотрубок и других наноструктур. Установка содержит высоковакуумную систему откачки, систему напуска рабочих газов, камеру геликонного разряда, камеру дрейфа, вакуумно-дуговые источники, источники питания и систему контроля с малогабаритным оптическим спектрометром. Установка интегрирует процессы плазменно-стимулированного химического парофазного осаждения, очистки и активации поверхности подложки в плазме разряда, нанесения переходных адгезионных слоев и металла-катализатора, а также процесс непосредственного формирования углеродных наноструктур.

1. Нанотехнологии в электронике / Под ред. Ю. А. Чаплыгина. – М.: Техносфера, 2005. – 448 с.
2. Shinohara S., Shamrai K.P. Effect of electrostatic waves on a rf field penetration into highly collisional helicon plasmas // Thin Solid Films. – 2002. – V. 407. – № 1—2. – P. 215-220.
3. Кралькина Е.А. Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе // УФН. – 2008. – Т. 178. – № 5. – С. 519-540.