Nauka innov. 2014, 10(5):24-33
https://doi.org/10.15407/scin10.05.024

Данько В.А., Індутний І.З., Луканюк М.В.,  Минько В.І., Шепелявий П.Є.
Інститут фізики напівпровідників ім. В.Є. Лашкарьова НАН України, Київ

Технологія виробництва голограмних дифракційних граток на основі неорганічних вакуумних фоторезисторів

Розділ: Науково-технічні інноваційні проекти Національної академії наук України
Мова статті: українська
Анотація: Виконано інноваційний проект з розробки технологічного методу формування голограмних дифракційних ґраток, який дає можливість виготовляти високоякісні дифракційні елементи з просторовими частотами від 600 до 3600 мм–1 для спектральних приладів. Розроблено технологічні інструкції по реалізації цього методу та виготовлено експериментальні зразки. Встановлено, що характеристики виготовлених в рамках даного проекту експериментальних зразків голограмних дифракційних ґраток відповідають технічному завданню та ДСТ 3-6128-86.
Ключові слова: дифракційні ґратки, халькогенідні фоторезисти, спектральні прилади.

Повний текст (PDF)